一氧化硅靶材价格

高纯铝靶生产厂家

      北京石久高研金属材料有限公司致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。

      高纯铝靶

      化学符号：Al外 观：银白色原 子 量：26.98154蒸发温度：1220℃密 度：2.7g/cm3熔 点：660℃沸 点：2467℃汽化温度：1082℃电 阻 率/μΩ?cm:2.66电阻温度系数/℃-1:4.20×10-3溶 解 于：碱类，稀硝酸蒸发方式：钨丝或钼舟蒸发源材料（丝、片）:W坩 埚:BN、TiC/C、TiB2-BN性 能：铝膜从紫外区到红外区具有平坦而且很高的反射率，铝膜对基地的附着力比较强，由于铝膜表面总是存在着一层透明的Al2O3薄膜的保护，所以铝膜的机械强度和化学稳定性都比较好。通常真 空蒸发制备的铝膜呈银灰色，但有时也呈黑色。蒸发源为电子枪，基地为氧化硅薄膜（100nm厚），蒸镀铝料的纯度为99.999%。合金及相湿、钨多股绞合较好；加工性能好，可加工成任意形状；应 用：保护膜，反射膜，一氧化硅靶材，增透膜用 途：超纯铝用于制造光电子存储媒体；作为集成电路的配线

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镀膜专用高纯铬粒，铬粒

      北京石久高研金属材料有限公司致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。

      进口铬粒，一氧化硅靶材价格，铬靶，铬粉化学符号：Cr 外 观：呈灰白色不规则状粉末 密 度：7.2 熔 点：约1900℃原子量：51.996 沸点约：2482℃波 长/nm：550 折色率：n=2.49（λ=546nm） n=3.21（λ=630nm）消光系数k：3.0 反射率/%：55.6热导率：91W/(cm.K) 线膨胀系数：6.0×10-6℃-1电阻率：12.9μΩ.cm 莫氏硬度：9蒸发温度：饱和蒸汽压1.33Pa时1400℃蒸发源：W(丝、片)、C（坩埚）特 点：高硬度、高熔点和沸点、强抗腐蚀性、有光泽、有延展性。机械性能和化学性质：膜附着力好，应高速率淀积，质硬而脆，耐腐蚀 溶解于20%NaOH+不溶于水。用 途：用于生产金属陶瓷和耐高温非铁基合金部件。 作为装饰性或功能性镀层也被广泛应用于电镀行业。分析报告：（99.999%）in ppm： 铬，高纯铬，北京一氧化硅靶材批发，高纯铬粒，高纯铬粉，高纯铬块，铬条，一氧化硅靶材批发，铬靶，铬蒸发料，

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