药厂净化

     无尘室之设备机器：例如空气浴尘室，设在无尘室之入口处，采钢板净化车间，对需要进入无尘室的工作人员，以高速喷气式清净空气吹拂，将工作人员衣服上附着的微粒子清净后才能进入。另外，用于传递无尘室内外之物品以减少人员进出频率之传递箱及空气过滤系统等均属此类。二、无尘室管理机器：如无尘衣柜、保管库、无尘置物架、干燥式无尘贮存柜等设备。三、活动式无尘棚：如无尘操作棚、局部超洁浄工作区等设备。四、无尘操作台：如防爆无尘工作台、标准工作台等设备。五、生物科学用途：如无菌手术房、无尘无菌烘手机等等。六、环境对策机器：如防静电装置、环境试验室等。七、洁净室内用品：如无尘衣、无尘纸等。

  洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，净化，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，宠物食品厂净化，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，药厂净化，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产最jia湿度范围为35-45%。

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