钨靶

PVD制程所用的靶材需要检验哪些项目

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      1.靶材的纯度，可以用化学分析法、光谱能量测定法等方法检验；

      2.晶粒度：要求晶粒越细小越好。而且晶粒要尽可能均匀一致。可以用光学显微镜检验；

      3.密度：原则上，靶材的密度越高越好。密度越高，钨靶，晶粒间隙越小，压制紧密，钨靶加工，靶材质量越好。可以用称量法检验；

      4.组织均匀性：对于两种成份以上的合成靶，钨靶，特别是相互难融的成分，还可以做金相检验，看成分、组织是否均匀一致；

      5.机械性能:有些靶材，如有色金属等可以要求一下。石墨靶，好一点的，也有该要求。检验用专门的机械性能试验机。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

溅射对靶材有哪些性能要求

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      1.靶材短路后靶材成了负载，瞬间就会产生巨大的热量。由于纯铝的熔点很低，只有660摄氏度，不但在外力的作用下靶材变形，局部还会达到熔点，形成溶洞；2。即便靶材不短路，如果冷却系统出现问题铝靶材也容易变形；3.磁控溅射镀膜电源保护性的功能差，超载后不能及时自动停止工作。

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