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磁控溅射靶材的原理介绍

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，氧化镁靶批发，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用( E X B drift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状，氧化镁靶多少钱，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。 在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

PVD制程所用的靶材需要检验哪些项目

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      1.靶材的纯度，可以用化学分析法、光谱能量测定法等方法检验；

      2.晶粒度：要求晶粒越细小越好。而且晶粒要尽可能均匀一致。可以用光学显微镜检验；

      3.密度：原则上，靶材的密度越高越好。密度越高，晶粒间隙越小，氧化镁靶，压制紧密，靶材质量越好。可以用称量法检验；

      4.组织均匀性：对于两种成份以上的合成靶，特别是相互难融的成分，还可以做金相检验，看成分、组织是否均匀一致；

      5.机械性能:有些靶材，北京氧化镁靶批发，如有色金属等可以要求一下。石墨靶，好一点的，也有该要求。检验用专门的机械性能试验机。

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