高纯镁靶批发

厂商 :北京石久高研金属材料有限公司

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商品详细描述
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溅射对靶材有哪些性能要求

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,镁靶,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。


      1.靶材短路后靶材成了负载,瞬间就会产生巨大的热量。由于纯铝的熔点很低,只有660摄氏度,不但在外力的作用下靶材变形,局部还会达到熔点,镁靶厂家,形成溶洞;2。即便靶材不短路,如果冷却系统出现问题铝靶材也容易变形;3.磁控溅射镀膜电源保护性的功能差,超载后不能及时自动停止工作。



石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~







溅射靶材

      京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,高纯镁靶批发,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      磁控溅射靶材原理:

      磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,镁靶,在溅射金属时,其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,如今,常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。

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