合金溅射镀膜靶材多少钱

PVD制程所用的靶材需要检验哪些项目

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，合金溅射镀膜靶材多少钱， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，合金溅射镀膜靶材加工，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      1.靶材的纯度，合金溅射镀膜靶材，可以用化学分析法、光谱能量测定法等方法检验；

      2.晶粒度：要求晶粒越细小越好。而且晶粒要尽可能均匀一致。可以用光学显微镜检验；

      3.密度：原则上，靶材的密度越高越好。密度越高，晶粒间隙越小，压制紧密，靶材质量越好。可以用称量法检验；

      4.组织均匀性：对于两种成份以上的合成靶，特别是相互难融的成分，还可以做金相检验，看成分、组织是否均匀一致；

      5.机械性能:有些靶材，如有色金属等可以要求一下。石墨靶，好一点的，也有该要求。检验用专门的机械性能试验机。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

金属靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，合金溅射镀膜靶材厂家， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。

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