金属溅射镀膜靶材

PVD制程所用的靶材需要检验哪些项目

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      1.靶材的纯度，可以用化学分析法、光谱能量测定法等方法检验；

      2.晶粒度：要求晶粒越细小越好。而且晶粒要尽可能均匀一致。可以用光学显微镜检验；

      3.密度：原则上，靶材的密度越高越好。密度越高，北京金属溅射镀膜靶材厂家，晶粒间隙越小，压制紧密，靶材质量越好。可以用称量法检验；

      4.组织均匀性：对于两种成份以上的合成靶，特别是相互难融的成分，金属溅射镀膜靶材，还可以做金相检验，看成分、组织是否均匀一致；

      5.机械性能:有些靶材，如有色金属等可以要求一下。石墨靶，好一点的，金属溅射镀膜靶材多少钱，也有该要求。检验用专门的机械性能试验机。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

溅射靶材

     北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      高纯铜靶材加工的发展趋势

　　目前，金属溅射镀膜靶材厂家，IC行业所需高端超高纯金属铜靶材几乎全部为国外几个大型跨国公司所垄断。国内IC行业所需的超纯铜靶材基本全部需要进口，不仅价格昂贵，而且进口手续繁杂。国内靶材生产企业基本属于质量和技术门槛较低、采用传统加工方法、依靠价格取胜的低档次溅射靶材生产者，或获利有限的代工型加工厂。

　　目前，国外主要半导体溅射靶材供货商已投入到超高纯度(6N)铜溅射靶材的开发，同时已经将试生产的铜溅射靶材送交溅镀设备供货商进行相关测试及验证，部分公司产品已上线生产。

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