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净化车间最主要的作用是什么? 净化车间最主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触的大气的洁净度以及温湿度，gmp车间净化工程，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为净化车间。按照国际惯例，济宁gmp车间净化，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，gmp车间净化参数，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，gmp车间净化造价，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负f面影响，所以在光学构造产品的生产上，净化车间无尘是必然的要求。

　　每立方米将小于0.3微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。5μm及以下的微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

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净化参数

换气次数：100000级≥15次；10000级≥20次；1000≥30次。压差：主车间对相邻房间≥5Pa平均风速：10级、100级0.3－0.5m/s；温度 冬季>16℃；夏季 <26℃；波动±2℃。

湿度45－65%；GMP粉剂车间湿度在50%左右为宜；电子车间湿度略高以免产生静电。

噪声≤65dB（A）；新风补充量是总送风量的10%－30%；照度300LX

净化原理步骤

气流→初效净化→加湿段→加热段→表冷段→中效净化→风机送风→管道→高效净化风口→吹入房间→带走尘埃细菌等颗粒 → 回风百叶窗→初效净化 重复以上过程，即可达到净化目的。

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