净化工程

洁净室中的温湿度控制

   洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，gmp车间净化工程，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，净化工程设计，就引起了0.24um线性膨胀，净化工程，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，滨州净化工程，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产适合湿度范围为35—45%。

   十万级洁净室

十万级无尘车间表示每立方米空气中直径大于等于0.5um的灰尘粒的数量少于10万个。

所谓十万级是指一英尺的空间内允许存在的0.5微米的尘埃粒子的个数在十万个以内。

    1000-30万级净化室和100级以上的净化室不同，室内的气流是以不均匀的速度成不平行流动，伴有回流或涡流，它主要靠洁净的气流不断稀释室内的空气，将室内的污染逐渐排出，来实现净化。不同的净化等级，主要是依靠单位时间内所送风量的不同来实现。

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