磁控溅射靶材

溅射靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，磁控溅射靶材， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      磁控溅射靶材原理：

      磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，溅射靶材供应商，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，二氧化钛溅射靶材，也可溅射非导电的材料，同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，溅射靶材，如今，常用的有电子回旋共振(ECR）型微波等离子体溅射。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

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      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      铝靶材：

      铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。

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