铝靶材

厂商 :北京石久高研金属材料有限公司

北京 北京
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商品详细描述
氟化铝靶材,旋转铝靶材,锌铝靶材,铝靶材

溅射靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,氟化铝靶材,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      溅射靶材原理: 以pld为例,因素主要有:靶材与基片的晶格匹配程度  镀膜氛围(低压气体氛围)  基片温度  激光器功率  脉冲频率  溅射时间  对于不同的溅射材料和基片,尽量参数需要实验确定,是各不相同的,铝靶材,镀膜设备的好坏主要在于能否准确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~







金属靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,锌铝靶材,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。

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