平面靶材厂家

金属靶材的前景

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

       钨-钛靶材作为光伏电池镀膜材料是最近发展起来的，平面靶材厂家，它作为第三代太阳能电池的阻挡层是好的选择。

　　由于 W-Ti 系列薄膜具有非常优良的性能，近几年来应用量急剧增加，2008年W-Ti 靶材世界用量已达到400t，随着光伏产业的发展，平面靶材价格，这种靶材的需求量会越来越大。具行业预测其用量还会有很大的增加。国际太阳能电池市场以100%的速度增长，目前世界有30 多公司参与太阳能市场的进一步开发， 并已有的公司产品投入市场。我国研发的超大尺寸、高密度、高纯W-Ti 靶材，是属于新型的离子溅射镀膜靶材料。可广泛应用于显示屏的阻挡层或调色层，笔记本电脑的装饰层、电池的封装、太阳能（光伏）电池的阻挡层，具有很好市场前景和经济效益。另一方面又可带动我国钨产业的产品升级换代，获得更高的附加值。

       石久高研专注15年提供高纯金属靶材 高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~

溅射靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      溅射靶材原理： 以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度 　镀膜氛围（低压气体氛围） 　基片温度 　激光器功率 　脉冲频率 　溅射时间 　对于不同的溅射材料和基片，平面靶材，尽量参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否准确控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。

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