旋转靶材多少钱

溅射靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，旋转靶材， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      铝靶材：

      铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，旋转靶材加工，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  高品质、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

金属靶材

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      溅射靶材的要求较传统材料行业高，旋转靶材，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。

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