北京三氧化二铝靶材哪家好

高纯铜靶材的应用领域及发展趋势

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，北京三氧化二铝靶材哪家好，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      高纯铜靶材的应用领域及发展趋势

      高纯铜靶材主要应用领域

      高纯铜靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高端装饰用品等行业。

　　信息存储产业：随着信息及计算机技术的不断发展，世界市场对记录介质的需求量越来越大，与之相应的记录介质用靶材市场也不断扩大，其相关产品有硬盘、磁头、光盘(CD-ROM，CD-R，北京三氧化二铝靶材，DVD-R等)、磁光相变光盘(MO，CD-RW，DVD-RAM)。

　　集成电路产业：在半导体应用领域，靶材是世界靶材市场的主要组成之一，主要用于电极互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电极膜、电阻薄膜等方面。

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磁控溅射靶材的原理介绍

      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

      磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用( E X B drift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。 在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，北京三氧化二铝靶材批发价格，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。

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