稀土金属靶材

     广州市尤特新材料有限公司是一家扎根于电子信息材料行业的高新技术企业，以生产信息存储记录材料为起点，顺延产业技术发展的方向，深耕产业技术应用的潜力，经过11年的开拓已发展成为拥有电子浆料（金属镀膜技术）、金属薄膜靶材（真空镀膜靶材技术）信息存储记录材料（激光读写光盘生产技术）、工程塑料（PC再生造粒及改性技术）、触控显示材料（手机、平板触摸屏材料）、石墨烯材料（导电、散热）、UV化工材料（UV油墨、UV电子胶粘剂）这七大核心技术为中心的产业集团。

      溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理-气相镀膜方式，就是用电子系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，金属靶材公司，合金，陶瓷，硼化物等。

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    也有人采用射频溅射技术以Ti为靶材制备TiO2薄膜。射频溅射时采用的气氛为O2和Ar的混合气体，通过控制压力控制所得薄膜的相态;对于一些特殊基体，稀土金属靶材，还要考虑薄膜与基体之间的附着性能，金属靶材，根据基体的性质采取相应的工艺;实际生产中，在低成本前提下大规模镀膜，要求较高的沉积速率，射频溅射沉积速率很低，不适合大规模生产。

    与以Ti为靶材相比，以TiO2为靶材，可将复杂的反应过程转化为较简单的物理过程。TiO2靶材通常导电性很差，由于一定的溅射速率需要一定的工作电流，若用直流溅射，则需大幅度提高直流溅射电源的电压来弥补靶材导电性不足引起的电压降。射频溅射对靶材的导电性没有要求，适用于各种金属和非金属材料，因此，射频溅射法的应用比较广泛。

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