磁控溅射厂家

溅射技术的成就之一是磁控溅射。由于在磁控溅射中引入了正交电磁场使离化率提高到5~6%。于是溅射速率比三级溅射提高10倍左右，对许多材料，鸡西磁控溅射，溅射速率达到了电子束蒸发的水平。

控溅射具有“低温”、“高速”两大特点。

磁控溅射是以磁场来改变电子的运动方向，并束缚和延长电子的运动轨迹，磁控溅射设备，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效的利用了电子的能量。因此，是正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。

所以磁控溅射具有“低温”“高速”这两大特点。

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