16BF-4M5P精密双面平面抛光机工厂

精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，16BF-4M5P精密双面平面抛光机工厂，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。自动抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构，已逐步引起有关专家的重视。国内外在自动抛光机的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新机型、新一代的抛光设备，正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动自动抛光机。

自动抛光机常常用于抛光工艺中，在工艺安排过程中，自动抛光机常常需要进行表面处理，对于产量要求比较大的工厂，常常需要对工艺坚持配置原则，用来保证抛光的准确性。那么自动抛光机对于工艺的配置原则有哪些呢？接下来由小编为大家详细介绍。

主要配置原则如下：

1.对规则物件，如旋转体，球体，方块，平板等等。

2.每个地方都能轻易抛到。

3.每道工序，只需同种机型一台即可。

4.对不规则物件，比如勺子，就要分段进行抛光。