层流净化手术室

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（1）术后及时、彻底清洁室内所有物品、墙壁及地面。（2）妇女不可用粉、头发喷雾剂和指甲油之类的化妆品，层流净化手术室，以减少污染来源。（3）工作服应选用不易产生静电、不易脱落纤维的涤纶和尼龙织物。（4）定期检测层流系统功能状态，测试层流手术室环境空气洁净度指标和細菌培养等。总之，使用层流手术室，强化无菌观念和正规化管理仍然是医了程安全的根本保证与要求，金华净化，仍然是手术室工作之根本、之重点，只有当两者紧密结合起来才是趋于完美的。

净化工程是一个应用行业非常广泛的基础性配套产业，在电子信息、半导体、光电子、精密制造、医药卫生、生物工程、航天航空、汽车喷涂等众多行业均有应用，并根据行业的精密与无尘要求，等级差别也较大，净化工程是一个非常细致的过程，要关注到方方面面，下面就由大锐净化来简单讲一讲洁净室中的温湿度控制吧。

洁净室中的温湿度控制

洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，手术室净化，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，净化手术室，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产樶佳湿度范围为35—45%。

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