UV光解除臭设备厂家

厂商 :广州峰丽环保工程有限公司

广东 广州
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商品详细描述

广州峰丽环保科技有限公司成立于2011年,是集工程设计、工程施工、环保设备开发的专业环境系统服务工程环保公司。 公司拥有一批有着丰富理论和工程实践经验的专业技术人才,专门从事环境系统工程工艺研究、工程设计、施工技术管理、质量安全管理。有成建制的专业施工队伍和非标设备生产厂。全方位、高品质、高效率 服务监督 由服务监督人员督服务实施全过程,保证工程服务实施的质量,实现工程、监督双线管理,确保有效地执行各项服务,从而提高售后服务和工程质量。



光催化氧化废气净化技术从理论研究到实际应用,光催化氧化技术在废水处理和废气净化都是一项成熟的工艺,工艺有效性的关键在于紫外线的强度和催化剂的催化能力以及催化时间。从光触媒空气净化器到光催化废气净化设备,能够发现许多非常不科学的设计,例如废气在处理设备中的停留时间;催化剂的面积;催化剂的纯度和TiO2的纳米直径;催化剂的固化结构;紫外线灯的设置(数量、距离),石家庄UV光解除臭设备,都直接决定和影响光催化氧化的能力。TiO2通用技术说明光催化氧化处理污染物是一种新兴的技术,其中纳米TiO2 光催化应用技术工艺简单、成本低廉,利用自然光即可催化分解细菌和污染物,具有高催化活性、良好的化学稳定性和热稳定性、无二次污染、无刺激性、安全无毒等特点,UV光解除臭设备厂家,且能长期有益于生态自然环境,是具有开发前景的绿色环保催化技术之一.此外,由于颗粒的细微化,纳米材料还具有块状材料所不具备的表面效应、量子尺寸效应、小尺寸效应和宏观量子隧道效应.

1 TiO2 的光催化机理

半导体的能带结构通常是由一个充满电子的低能价带和一个空的高能价带构成,它们之间的区域称为禁带.禁带是一个不连续区域.当能量大于或等于半导体带隙能的光波辐射此半导体催化剂时,处于价带的电子(e)就会被激发到导带上,价带生成空穴(h+),哪有UV光解除臭设备,从而在半导体表面产生具有高度活性的空穴/电子对.TiO2 的带隙能为 3.2ev,相当于波长为 387.5nm光子的能量,当TiO2 受到波长小于 387.5nm的紫外光照射时,处于价带的电子就会被激发到导带上去,从而分别在价带和导带上产生高活性的光生空穴和光生电子.在电场的作用下,电子与空穴发生分离,迁移到粒子表面的不同位置.热力学理论表明,分布在TiO2表面的空穴可以将吸附在其表面的OH-和H2O分子氧化成·OH.而电子(e-)具有很强的还原性,可使得TiO2

固体表面的电子受体如O2 被还原.O2 既可以抑制光催化剂上电子和空穴的复合,提高反应效率,同时也是氧化剂,可以氧化已经化的反应产物,是表面自由基的另一个来源.缔合在Ti4+表面的·OH的氧化能力是水体中存在的氧化剂中最强的,能够氧化大部分的有机污染物及部分无机污染物,将其最终降解为CO2、H2O等无害物质,并且对反应物几乎无选择性,因而在光催化氧化中起着决定性的作用.从理论上说,只要半导体吸收的光能大于等于其带隙能,就能被激发产生光生电子和光生空穴,该半导体就可以作为光催化剂,但从实际来看,一个具有实际应用价值的半导体光催化剂必须具有化学稳定性、光照稳定性、高效性和选择性及较宽的光谱响应,同时还要考虑到材料成本和光匹配性等因素.



广州峰丽环保科技有限公司成立于2011年,是集工程设计、工程施工、环保设备开发的专业环境系统服务工程环保公司。 公司拥有一批有着丰富理论和工程实践经验的专业技术人才,专门从事环境系统工程工艺研究、工程设计、施工技术管理、质量安全管理。有成建制的专业施工队伍和非标设备生产厂。全方位、高品质、高效率 服务监督 由服务监督人员督服务实施全过程,保证工程服务实施的质量,实现工程、监督双线管理,确保有效地执行各项服务,从而提高售后服务和工程质量。



UV光解除臭设备安装及维护保养:

1 、用户应根据我公司提供的基础资料图,进行混凝土基础施工。基础的安装面,应保证在同一水平面上,净化塔底脚须知螺栓或沓接固定在基础的予埋钢板上。

2 、风机安装时,应严防杂物掉入风机内。净化塔安装完丝后,在试车之前必须清除塔内污物。

3 、因一般玻璃钢易燃,安装及维修过程中,严禁使用明火。

4 、贮液箱内 NaOH 溶液浓度应保持在 2-6% 范围内,当 NaOH 浓度低于 2% 时,必须加注 NaOH 溶液。贮液箱中废液应根据实妹使用情况进行更换。

5 、如风机安装在室内,风机的电机应采取防雨措施。

6 、净化塔必须有专人责任管理,经常检查风机运转是否正常,UV光解除臭设备价格,液位是否政党液位箱中浮球开关是否正常, NaOH 溶液浓度是否在规定范围等等,如发现问题,应及时解决。

7 、为确保贮液箱中液位,防止开关风机时引起液位升降,必须在开启风机后,开启浮球供水阀,关闭风机前,先关闭浮球供水阀。液位高度静态应控制在离地 650mm 左右为宜。

8 、净化塔金属支架至少每年进行防腐处理二次。




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