高真空镀膜机

Ｂ　化学气相沉积的优点

（１）既可制造金属膜，又可按要求制造多成分的合金膜，通过

多种气体原料的流量进行调节，能够在相当大的范围内控制产

的组分并能制取混晶等复杂组成和结构的晶体，同时能制取用

他方法难以得到的优质晶体。

（２）速度快，高真空镀膜机厂家，一般是每分钟几个微米甚至能达到每分钟几百

微米，同一炉中可放入大批量的工件，高真空镀膜机价钱，并能同时取得均一的镀

。这是其他的薄膜生长法，如液相外延和分子束外延等方法远

不能比拟的。

真空镀膜设备磁控溅射的使用范围很广，高真空镀膜机生产， 可制备成靶材的各种材料均可以此方法制备成薄膜材料， 包括各种金属、半导体、铁磁材料、绝缘的氧化物、陶瓷、聚合物等物质。在适当的条件下， 可采用共溅方式沉积所需组分的混合物薄膜; 也可以在溅射的放电气氛中加入氧、氮或其它活性气体， 可反应沉积形成靶材物质与气体分子的化合物薄膜;它的优点是对靶材的导电性没有要求。反应溅射既可以是直流反应溅射， 也可以是射频反应溅射。共溅射是使用两个由不同材料制备的阴极靶，宁化高真空镀膜机， 同时进行溅射， 通过调节阴极靶上溅射放电电流， 来改变薄膜的成分。还可以在一个主要的靶材的表面， 固定或粘贴其它材料薄片， 实现共溅。

离子镀膜特点主要有：附着力强，膜层不易脱落；绕镀性好，改善了表面的覆盖度；镀层质量好；沉积速率高，成膜速度快，可镀制30um的厚膜；镀膜所适用的基体材料与膜材范围广泛。适用于在金属或非金属表面上镀制金属、化合物、非金属材料的膜层。如在钢铁、有色金属、石英、陶瓷、塑料等各种材料的表面镀膜。

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