真空离镀膜机价钱

１１２５　化学气相沉积技术

前面叙述的镀膜技术属于物理气相沉积，真空离镀膜机厂家，即ＰＶＤ法。以下

讨论使用加热等离子体和紫外线等各种能源，使气态物质经化学

反应生成固态物质沉积在基片上的方法，这种方法叫做化学气相

沉积技术，简称ＣＶＤ技术。

Ａ　化学气相沉积技术原理

ＣＶＤ原理是建立在化学反应基础上的，是利用气态物质在固

体表面上进行化学反应，生成固态沉积物的过程。广义上讲，泸水真空离镀膜机，认为

有五种不同类型的ＣＶＤ反应。即固相扩散型、热分解型、氢还原

型、反应沉积型、置换反应型，其中固相扩散型是使含有碳、氮、硼、

氧等元素的气体和炽热的基体表面相接使表面直接碳化、氮化、硼

化、氧化，从而达到对金属表面保护和强化的目的，这种方法利用

了高温下固相?气相的反应，由于非金属原子在固相中的扩散困

难，真空离镀膜机价钱，膜的生长速度慢，所以要求较高的反应温度，真空离镀膜机价格，适于用制造半导

体膜和超硬镀层的反应法有热分解法和反应沉积法，但是热分

解法受到原料气体的限制同时价格较高，所以一般使用反应沉

积法。

（３）镀层质量高：由于所沉积的薄膜不断地受到阳离子的轰

从而引起了冷凝物发生溅射，致使膜层组织致密。

（４）工艺操作简单，成膜速度快，可镀制厚膜。

（５）可镀材质广泛：这种镀膜方法可以在金属或非金属表面

镀制金属或非金属材料，如对塑料、石英、陶瓷和橡胶等材料，以

各种金属、合金和某些合成材料、热敏材料和高熔点材料等，都

镀覆。

（６）沉积效率高：一般说来，离子镀沉积几十纳米至微米量级

度的膜层，其速度较其他方法为快。

   磁控溅射镀膜机应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。

   该系列设备主要是使用直流（或中频）磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，如：铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料，可以利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。

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