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- 真空镀膜设备
- 真空镀膜电源
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商品详细描述
真空镀膜机真空镀铝纸,真空离镀膜机,也称喷铝纸、镀铝纸、蒸镀纸。真空镀膜设备真空镀铝纸是在1.33×102帕以上的高真空中,以电阻、高频或电子束加热,使铅丝加热到1400摄氏度左右气化后附着在纸基上形成的。真空镀膜机真空镀铝纸生产工艺可分为直接蒸镀法和转移蒸镀法两种。直接法(也称纸面镀铝),是预先对纸表面进行涂覆处理,以提高纸张表面平整性、光亮度,然后将纸直接置于真空镀铝机进行镀铝,这种方法仅适于薄纸上喷铝,常见的有铜版纸、白板纸和卡纸等。
1123 真空离子镀膜
真空离子镀膜技术是近十几年来在真空蒸发和真空溅射两种
镀膜技术基础上发展起来的一种新的镀膜技术,最早是由美国
SANDIN公司的 MO?TTOX创立的。并于1967年在美国获得了
专利权。这种镀膜技术由于在膜的沉积过程中基片始终受到高能
离子的轰击而十分清洁,因此它与蒸发镀膜和溅射镀膜相比较,具
有一系列的优点,所以这一技术出现后,立刻受到了人们极大地
重视。
(3)在常压或低真空下镀膜的绕射性好,真空离镀膜机厂家,开口复杂的工件,工
中的深孔、细孔都能得到均匀镀层,在这方面CVD要比PVD
越得多。
(4)由于工艺温度高,能得到纯度高、致密性好、残余应力小、
晶良好的镀层,又由于反应气体、反应产物和基体的相互扩散,真空离镀膜机价钱,
以得到附着强度好的镀层。这对于制备耐磨、抗蚀等表面强化
是至关重要的。
(5)CVD可以获得平滑的沉积表面,这是由于CVD和LPE
比,前者是在高饱和度下进行的,成核率高,真空离镀膜机生产厂家,成核密度大,在整
平面上分布均匀,从而产生宏观平滑的表面。同时,在CVD
,与沉积相关的分子(原子)的平均自由程比LPE和熔盐法要
得多,其结果,分子的空间分布更均匀,有利于形成平滑的沉
面。
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