cvd真空镀膜

利用溅射法不仅可以获得纯金属膜，也可以获得多组元膜。

获得多组元膜的具有代表性的方法有三种：

（１）采用合金、化合物靶：用合金或复合氧化物制成的靶，永修cvd真空镀膜，在

稳定放电状态，可使各种组分都发生溅射，得到与靶的组成相差不

大的膜。

（２）采用复合靶：由两个以上的单金属复合而成，cvd真空镀膜设备厂，可有各种

形状。

（３）采用多靶：采用两个以上的靶并使基板进行旋转，每一层

约一个原子厚，cvd真空镀膜工厂，经过交互沉积而得到化合物膜。

镀膜产品的需要，cvd真空镀膜机器，膜厚均匀性程度的要求会有所不同。在一般工业生产
中，膜厚的不均匀程度要求为 依（猿豫 耀 员缘豫）。为提高膜厚均匀度，可
以采取优化靶磁场、优化靶基距、改变基片运动方式、改进靶充气结构、
增加挡板机构、采用气体放电监控系统和膜厚监控仪等措施。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司
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