磁控溅射镀膜机

在磁控溅射进行时，糟 点区域将成为等离子体汇聚的区域，因此此处的等离子体最多，相应的靶材位置的溅射最强烈，溅射率也大。此位置处的靶材会先被刻蚀穿透，镀膜机销售，刻蚀穿透后的靶材无法再继续使用。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司

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目前，有关多弧离子镀技术的阐述主要散见于相关学术刊物和此前的一些关于表面沉积技术的书籍中，迄今为止，国内尚无专门针对多弧离子镀技术及应用的著作面世。本书以多弧离子镀技术为中心，围绕其技术、工艺、设备和应用，有针对性地展开相关论述，力求为读者提供关于多弧离子镀技术的系统、翔实和有效的、全方位的、具有较强实用性的内容。

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