多弧磁控离子镀膜设备

利用溅射法不仅可以获得纯金属膜，也可以获得多组元膜。

获得多组元膜的具有代表性的方法有三种：

（１）采用合金、化合物靶：用合金或复合氧化物制成的靶，在

稳定放电状态，可使各种组分都发生溅射，多弧磁控离子镀膜厂，得到与靶的组成相差不

大的膜。

（２）采用复合靶：由两个以上的单金属复合而成，多弧磁控离子镀膜技术，可有各种

形状。

（３）采用多靶：采用两个以上的靶并使基板进行旋转，每一层

约一个原子厚，清涧多弧磁控离子镀膜，经过交互沉积而得到化合物膜。

另一个是镀膜真空室．两个室的真空分别由一个罗茨泵或扩散泵与
前一级的一个机械泵组连接以达到必要的真空压力．当工作压力达
到后，蒸发系统打开，被蒸镀的薄膜以可调的速度从放卷侧移到收卷
侧，在镀膜过程中，薄膜介质与强迫制冷的镀膜主辊紧密贴合，进而
维持一个较低的介质温度．想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司
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