多弧磁控离子镀膜机器

实际应用表明，磁场在平行靶平面移动的阴极靶结构可使放电区内的电子跑道扩展，对靶材的溅射均匀，尤其在多成分复合靶材溅射时所得膜层的均匀性可得到改善。如图员圆鄄圆园 所示，该结构可将传统标准磁控溅射靶的靶材的利用率从圆园豫左右提高到源园豫 耀缘园豫。但是这种靶磁场结构的缺点是结构比较复杂，宁安多弧磁控离子镀膜，增加了靶的制造难度和成本。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司

同时ＴｉＮ、ＴｉＣ、Ａｌ２Ｏ３等膜层化学性能稳定，在许多介质中具有良好的耐蚀性，可以作为基体材料保护膜。在高温、低温、超高真空、射线辐照等特殊条件下工作的机械部件不能使用润滑油，只能使用软金属或层状物质等固体润滑剂，而采用溅射法制取ＭｏＳ２膜及聚四氟乙烯膜十分有效。虽然 ＭｏＳ２膜可用化学反应镀膜法制作，多弧磁控离子镀膜厂家，但采用溅射镀膜法得到的 ＭｏＳ２膜致密性好，附着性优良。溅射法制备的聚四氟乙烯膜的润滑特性不受环境温度的影响，多弧磁控离子镀膜技术，可长期在大气环境中使用，是一种很有发展前途的固体润滑剂。其使用温度上限为５０℃，低于－２６０℃时才失去润滑性。

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