pvd真空镀膜机

早在２０世纪初，大发明家爱迪生就提出了唱片蜡膜采用阴极

溅射进行表面金属化的工艺方法，pvd真空镀膜机价格，并于１９３０年申报了专利，这便

是薄膜技术在工业应用的开始。但是这一技术当时因受到真空技

术发展和其他相关技术发展的限制，其发展速度较慢，pvd真空镀膜机厂家，直到２０世

纪４０年代这一技术由于在光学工业中得到应用，才有了迅速发

展，并且逐渐形成了薄膜光学，成为光学的一个重要分支。

１１２２　真空溅射镀膜

在真空室中，山东pvd真空镀膜机，利用荷能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够

能量而溅出进入气相，然后在工件表面沉积的过程称为溅射镀

。溅射镀膜的基本原理是，以镀膜材料为阴极，以工件（基板）为

极，pvd真空镀膜机设计，在真空条件下，利用辉光放电，使通入的氩气电离。氩离子

击靶材，产生阴极溅射效应，靶材原子脱离靶表面后飞溅到基板

形成膜层。为提高氩气碰撞、电离几率，从而提高溅射速率，多

强化放电过程的技术方法被开发和应用，主要包括三极、四极溅

、磁控溅射、对向靶溅射、离子束溅射、射频溅射、反应溅射等。

些内容在相关的书籍中（《表面沉积技术》，王福贞、闻立时，编

）均有较为详细的阐述，这里就不再赘言。

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