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对于矩形磁控溅射靶来说，由于矩形平面磁控靶不像圆形磁控靶那样具有中心对称的性质，pvd真空离子镀膜机价钱，阴极靶内的永磁体沿着靶长度方向排列成行，形成以中心线为对称轴的两个磁场。这两个磁场在靶的长度方向上的分布比较均匀，pvd真空离子镀膜机工厂，但是在靶的宽度方向上是不均匀的（所以单纯从刻蚀均匀性考虑，pvd真空离子镀膜机图片，靶的宽度越小越好），因此膜厚的分布在沿靶宽度和长度两个方向并不相同。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司

普通的磁控靶的刻蚀面为一条很窄的跑道，所以靶材的利用率非常低。如果能够让磁场依次周期性地分布在靶的整个表面上，则可使整个靶面都能被刻蚀，嘉兴pvd真空离子镀膜机，其结构原理如图员圆鄄员愿 所示。
在靶的磁体组合结构上加上运动部件，将整个磁体都置于水冷却中，双向电机带动磁体沿着靶背面水平往复运动，使其产生的平行磁场也在靶面来回运动，从而使靶的刻蚀变为一个动态过程。想了解更多离子真空镀膜机|金属表面镀膜机|真空镀膜机设备请联系佛山市佛欣真空设备有限公司
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