金属镀膜设备价格

综合上述利弊，在镀膜机设计中，应根据不同的膜层、不同材料的

基片选择不同的加热温度。如在蒸镀金属膜时，一般采用冷基片，金属镀膜设备价钱，这样

可以减少大颗粒的形成，以防引起光散射和氧化反应带来的光吸收，并

可提高膜层的反射率，例如，温度为猿园益时蒸镀铝膜的反射率达怨园豫，台湾金属镀膜设备，

而在员缘园益时则只有愿园豫左右。基片的加热温度，金属镀膜设备定制，一般为 员园园 耀 源园园益，

特殊情况下也可达源园园 耀远园园益，金属镀膜设备价格，且加热温度应可调控。

依据员圆郾 愿郾 员 节靶的设计分析方法，靶设计时需要根据靶的结构形

式和不同的靶基形式建立磁控靶仿真模拟分析的数学物理模型。建立模

型所依据的理论有：基于碰撞输运理论（分子平均自由程）和余弦分布理

论；基于扩散输运理论等。根据镀膜工艺的要求，选择实际建模型的溅

射系统基本形式：

（员）矩形平面靶（基片固定）：基本，简单。

（圆）矩形平面靶（基片直线匀速运动）：在（员）的基础上修正、完善。

（猿）矩形平面靶（基片复合公自转运动）。

（源）圆平面靶（基片固定）：基本，简单。

（缘）圆平面靶（基片复合公自转运动）。

（远）圆柱靶（基片固定和直线运动）。

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