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商品详细描述
有关研究表明，靶的刻蚀及其深度与等离子体的浓度成正比关系，
而等离子体浓度与空间中的磁场分布有着密切相连的关系。由此可见，
靶的刻蚀主要受靶表面的等离子体的影响，等离子体由磁体产生的磁场
分布决定，提高靶材利用率的关键是调整磁场结构。显然增加磁场均匀
性能够增加靶面刻蚀的均匀性，多弧离子镀膜机价钱，从而延长靶的寿命、提高靶材的利用
率，而且合理的电磁场分布还能够有效地提高溅射过程的稳定性。可以
根据靶面磁力线分布来分析靶表面的刻蚀情况，使等离子体存在于更大
的靶面范围，实现靶面的均匀溅射。
悦摇 磁场（磁体）的均匀度
如果靶磁场减弱或变化，多弧离子镀膜机报价，靶的溅射状态将变化，二手多弧离子镀膜机，而且将影响等离子
体密度和膜层的均匀度。靶磁体的尺寸误差应该减少到接近依（园郾 员 耀
园郾 圆）皂皂 。就磁感应强度来说，每块磁体磁场强度的一致性误差应小于
依（员豫 耀猿豫）。除了磁体排列的性，通过使用铁磁极片（导磁片）
来扩展磁极和相对磁极，也可以达到减少磁场变化程度的目的。
对于多极磁性系统，由于在系统内磁极的数量与传统的两极设计相
比多出两倍多，河北多弧离子镀膜机，因此，单个磁体内的任何变化只占整个磁场系统内的许
多相互作用的磁体的很少部分，所以，对多极磁场结构来说，单个磁体
的误差对整个靶磁场变化的影响被进一步减弱。
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