真空镀膜机厂

员猿郾 圆郾 圆郾 圆摇 靶磁场的优化设计

粤摇 改进磁路布置

靶磁体和磁路的布置直接影响溅射靶的刻蚀均匀度和沉积膜厚的均

匀性。在靶的设计中，改进磁控溅射靶的磁路布置（包括磁体形状、极

靴结构、磁体之间的间隙等），改善磁场分布，采用组合磁场结构或多极

磁体结构，从而使放电区加宽，河北真空镀膜机，加大靶功率，拓宽靶的“跑道”刻蚀区和

改善溅射粒子的沉积分布，真空镀膜机厂，从而提高膜厚的均匀度和靶材利用率。

增加辅助磁场构成非平衡磁控溅射，从而拓宽溅射面积，相应改善

沉积膜层的均匀性。

尽管磁控溅射的真空度较二极溅射高，钛金真空镀膜机，但由于溅射出的粒子一般还

要经过数次碰撞才能到达基片，可以认为溅射出的粒子经碰撞后到达基

片的几率与其路径长度成反比。如果镀膜室的线径尺寸较小，气压的影

响不是很大，但对于镀膜室较大的镀膜设备，则不能忽略沉积粒子迁移

过程中的气体碰撞。而且靶基距越大，溅射粒子迁移的路程越长，散射

碰撞越严重，高真空镀膜机，到达基片上的几率越小，此处镀层的厚度就越小。但是在

一般情况下，这种影响的程度较轻，是靶基距对膜层厚度影响的次要

因素。

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