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商品详细描述
靶的优化设计主要有靶结构尺寸优化、磁场优化、减小边缘效应
影响。
员猿郾 圆郾 圆郾 员摇 矩形靶的尺寸设计
从理论上讲,磁控溅射靶是一个线源。所以,如果靶的长度与宽度的
比例越大,真空电镀机工厂,其溅射均匀区越长。可是,真空电镀机报价,由于靶的溅射轨迹必须是一个封闭
的曲线,不可能是一根直线,所以,洛阳真空电镀机,矩形靶的端部效应是不可能避免的。
考虑到靶端部边缘效应(“回形”)区域的溅射率低,所以靶的有效溅
射长度一定要大于基片镀膜区域长度。另外,由于靶越宽,其端部“回形”
区域越大(见图员猿鄄怨)。在达到一定的均匀性前提下,靶的设计长度将会
随着靶的宽度发生变化。狭窄的靶有较小的端部“回形”区域和比较长的
线性均匀溅射区域,所以,靶越宽,真空电镀机采购,其设计的靶总长度应越大。
在工作气体压力大于员郾 猿猿 孕葬 或靶材溅射粒子的动能减至工作气体
的热平衡能量以下时,靶材粒子以扩散运动为主,这对于大面积溅射镀
膜来说具有重要意义。因为在实际生产中,磁控溅射镀膜的工作气体压
力范围一般在园郾 员 耀员园 孕葬,对于基片单侧进行镀膜的工艺,靶材粒子会
沉积到基片上不需要镀膜的一侧,或者在不同靶材的多靶共溅射时,不
同靶材粒子相互沉积到各靶表面,即出现“绕射”现象。这会带来膜层的
污染问题,也会使沉积的薄膜均匀性发生改变。
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