pvd真空镀膜机报价

镀膜机的加热系统是用以满足真空系统的烘烤和提供薄膜生长所需

的温度条件的系统。基片的温度对薄膜的特性有很大影响，pvd真空镀膜机厂，如膜基结合

力、薄膜的结晶度、薄膜晶体的择优取向、薄膜的内应力、铁电薄膜的

电滞回线、矫顽场、导电薄膜的面电阻值、超导薄膜的居里点等参数都

与基片温度有关。同时基片的温度影响薄膜的属性，例如，大部分高温

超导材料的转变温度于源园园益，pvd真空镀膜机报价，陨栽韵膜的沉积温度也在源园园益。

靶的优化设计主要有靶结构尺寸优化、磁场优化、减小边缘效应

影响。

员猿郾 圆郾 圆郾 员摇 矩形靶的尺寸设计

从理论上讲，pvd真空镀膜机订做，磁控溅射靶是一个线源。所以，南平pvd真空镀膜机，如果靶的长度与宽度的

比例越大，其溅射均匀区越长。可是，由于靶的溅射轨迹必须是一个封闭

的曲线，不可能是一根直线，所以，矩形靶的端部效应是不可能避免的。

考虑到靶端部边缘效应（“回形”）区域的溅射率低，所以靶的有效溅

射长度一定要大于基片镀膜区域长度。另外，由于靶越宽，其端部“回形”

区域越大（见图员猿鄄怨）。在达到一定的均匀性前提下，靶的设计长度将会

随着靶的宽度发生变化。狭窄的靶有较小的端部“回形”区域和比较长的

线性均匀溅射区域，所以，靶越宽，其设计的靶总长度应越大。

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