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- 真空镀膜设备
- 真空镀膜电源
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商品详细描述
利用上述效应改变阳极附近的放电条件,中频磁控镀膜机工厂,控制各个小阳极的开关时
间,改变电阻或在阳极电路中加载附加电流来控制阳极电流以实现优化
设计。对于带有多阳极的系统,可以通过阳极的电位控制来改变沉积速
率的分布,例如,在多个小尺寸阳极上加载电压。还可以利用优化阳极
尺寸和位置效应来控制薄膜的均匀性。
(缘)溅射粒子的能量与工作气体压力的影响。带有能量的被溅射原
子与工作气体的相互作用对薄膜的生长、结构和均匀性有很大的影响。
在大型镀膜设备中,溅射粒子的行程通常大于其平均自由程,故在粒子
输运过程中工作气体对其的散射效应不能忽略。
对于矩形磁控靶,优化靶端部磁体结构布置,使端部磁场强度尽量接
近靶直道部分的磁场强度,减少靶端部边缘“回形”区域的影响;扩展靶宽
度方向磁场或保证靶长宽比在源 以上,都是改善膜厚分布的有效措施。
对于同轴圆柱形溅射靶,采用相对于靶面位置为移动的磁体,中频磁控镀膜机厂,亦可
改善磁场分布,达到改善膜厚均匀分布的目的。另外,在同轴圆柱磁控
靶设计中,中频磁控镀膜机价格,以长条封闭磁场代替环状磁场,中频磁控镀膜机,增加靶长度方向的尺寸以改
善端部效应,也都可以改善膜厚均匀性,详细内容可见员圆 章。
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