多弧离子镀膜机价钱

有关研究表明，靶的刻蚀及其深度与等离子体的浓度成正比关系，

而等离子体浓度与空间中的磁场分布有着密切相连的关系。由此可见，

靶的刻蚀主要受靶表面的等离子体的影响，多弧离子镀膜机价格，等离子体由磁体产生的磁场

分布决定，提高靶材利用率的关键是调整磁场结构。显然增加磁场均匀

性能够增加靶面刻蚀的均匀性，从而延长靶的寿命、提高靶材的利用

率，而且合理的电磁场分布还能够有效地提高溅射过程的稳定性。可以

根据靶面磁力线分布来分析靶表面的刻蚀情况，使等离子体存在于更大

的靶面范围，实现靶面的均匀溅射。

（员）放电及等离子体不稳定及不均匀的影响。溅射镀膜放电空间的

等离子体放电不稳定及密度分布不均匀，导致靶材的不均匀溅射和不均

匀沉积。

（圆）靶内磁极的位置对膜厚分布的影响。靶内磁极的位置决定了靶

磁场的分布，从而影响靶的溅射刻蚀区域及形貌，进而影响膜厚分布的

均匀性。

（猿）镀膜室抽气方式的影响。镀膜真空室的抽气管口位置处的气体

流速较快，压力较低，多弧离子镀膜机设备，抽走的气体必然靠附近区域的气流来补充，多弧离子镀膜机价钱，这就

造成沿抽气口附近和沿室壁方向的气流加速，石狮多弧离子镀膜机，使得抽气口附近的气体粒

子碰撞加剧，并且造成工作或反应气体布气不均匀和不稳定，从而使靠

近抽气口方位的基片镀层厚度有减小的趋势。基片离抽气管口越远，对

膜层沉积的异常影响越小。

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