真空金属镀膜机价格

员猿郾 圆郾 圆郾 圆摇 靶磁场的优化设计

粤摇 改进磁路布置

靶磁体和磁路的布置直接影响溅射靶的刻蚀均匀度和沉积膜厚的均

匀性。在靶的设计中，改进磁控溅射靶的磁路布置（包括磁体形状、极

靴结构、磁体之间的间隙等），真空金属镀膜机厂家，改善磁场分布，采用组合磁场结构或多极

磁体结构，从而使放电区加宽，加大靶功率，真空金属镀膜机价钱，拓宽靶的“跑道”刻蚀区和

改善溅射粒子的沉积分布，从而提高膜厚的均匀度和靶材利用率。

增加辅助磁场构成非平衡磁控溅射，从而拓宽溅射面积，相应改善

沉积膜层的均匀性。

摇

端部刻蚀效应的发生机理比较复杂，真空金属镀膜机价格，由公式 增凿 越 耘 伊 月

月圆 越 耘

月可知，电

子在正交电场和磁场下的漂移速度增凿 与电场强度成正比，甘肃真空金属镀膜机，与磁场强度

成反比。假定电场沿整个靶表面分布是一致的。电离主要产生于阴极鞘

层区和预鞘层区。耘 伊 月漂移速度正比于电场，而电场 耘 与阴极鞘层厚

度相关，鞘层厚度越大耘越小，反之亦然。磁场对电场是有影响的，磁

场强度水平分量越大，鞘层厚度越小，电场越强，反之亦然。

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