真空镀膜机厂

镀膜机的加热系统是用以满足真空系统的烘烤和提供薄膜生长所需

的温度条件的系统。基片的温度对薄膜的特性有很大影响，高真空镀膜机，如膜基结合

力、薄膜的结晶度、薄膜晶体的择优取向、薄膜的内应力、铁电薄膜的

电滞回线、矫顽场、导电薄膜的面电阻值、超导薄膜的居里点等参数都

与基片温度有关。同时基片的温度影响薄膜的属性，例如，uv真空镀膜机，大部分高温

超导材料的转变温度于源园园益，陨栽韵膜的沉积温度也在源园园益。

员猿郾 圆郾 圆郾 圆摇 靶磁场的优化设计

粤摇 改进磁路布置

靶磁体和磁路的布置直接影响溅射靶的刻蚀均匀度和沉积膜厚的均

匀性。在靶的设计中，改进磁控溅射靶的磁路布置（包括磁体形状、极

靴结构、磁体之间的间隙等），改善磁场分布，真空镀膜机厂，采用组合磁场结构或多极

磁体结构，从而使放电区加宽，加大靶功率，真空镀膜机，拓宽靶的“跑道”刻蚀区和

改善溅射粒子的沉积分布，从而提高膜厚的均匀度和靶材利用率。

增加辅助磁场构成非平衡磁控溅射，从而拓宽溅射面积，相应改善

沉积膜层的均匀性。

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