广东真空镀膜机供应商

靶的磁场强度设计应考虑靶的功率效率，即靶单位功率密度下的沉积速率。有关研究表明，在一定的参数范围内，广东真空镀膜机生产商，靶刻蚀跑道的宽度与施加磁场强度的圆 次方根成反比，与施加电压的四次方根成正比。这说明采用比较弱的磁场，可以增加刻蚀跑道宽度，提高靶材的利用率。相关实验还发现，工作气体的电离效率与靶磁场强度的关系也近似为饱和曲线。这表明，广东真空镀膜机，如果靶的磁场强度过低，沉积的功率效率会明显下降；如果靶磁场强度过高，靶的功率效率达到饱和基本不变；靶磁场只有在适中的强度范围内，其功率效率才正比于磁场强度。因此，广东真空镀膜机供应商，从总体上讲，靶磁场增大到一定程度，广东真空镀膜机厂家，电离效率和功率效率会达到饱和。

在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

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