五金真空电镀设备厂家

磁体的结构布局直接影响溅射靶的刻蚀均匀程度和沉积膜厚的均匀性。矩形平面磁控溅射靶的两个端部是刻蚀和膜厚分布不均匀最严重的部位，其原因是端部磁场不均匀并与中部存在着差异。因此，保证磁路的长宽比大于猿，基片沿矩形靶的宽度方向运动，改进矩形靶的端部磁场结构或将靶的长度加长使其端部位于基片的尺寸范围之外，均是磁路设计时应当考虑的问题。

离子镀是真空室中，利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来，不锈钢真空电镀设备厂家，不仅能明显地改进了膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。其优点是薄膜附着力强，五金真空电镀设备厂家，绕射性好，膜材广泛等。D.M.首次提出离子镀原理，起工作过程是：

先将真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高压电源，在蒸发源与基片之间建立一个低压气体放电的低温等离子区。基片电极接上5KV直流负高压，从而形成辉光放电阴极。辉光放电区产生的惰性气体离子进入阴极暗区被电场加速并轰击基片表面，对其进行清洗。然后进入镀膜过程，二手真空电镀设备价格，加热使镀料气化，芦苞真空电镀设备，起原子进入等离子区，与惰性气体离子及电子发生碰撞，少部分产生离化。离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层表面，致使膜层质量得到改善。

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