医院手术室净化工程

相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。洁净室中的温湿度控制。洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到 人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。要说净化工程在发展的前景方面，形势还是非常好的，市场需求更是一片大好。因为我们国家的制药、电子信息等行业都在迅速发展，车间净化工程，所以对净化工程行业的发展起到了带动的作用。在这里需要提醒大家的是自从我们国家的方面的改革条文GMP-2010发布之后，既推动了生物和食品化工行业的发展，也间接的推动了净化工程行业的发展。而且相关方面的政策支持也让净化工程行业的发展机遇推到了。

10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化要求仅次于1级，并且我国半导体技术也在发展之中，在未来对洁净度的要求更加高。1000级 一般只对尘埃浓度做要求，用于光学器件，仪器等高精仪器等10000级，用于液压设备的生产，和一些食品饮料的生产。100000级，这个级别比较的低，对净化度要求不是很高，主要在印刷厂，包装厂等。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。

100级：是常用的净化工程，电子厂净化工程，除了对空气中的尘埃数有要求，对空气中细菌的浓度也有明确要求。一般用于行业进行无菌制造，例如制造临床用于植入体内的物品，安徽净化工程，药品生产。医学科学实验也在此环境中，包括实验动物饲养环境。净化工程的一般施工程序：粉尘作业，无尘作业后，不允许交叉作业。 否则会影响项目的质量。 也就是说，电子净化工程，在完成所有粉尘产生操作之后，可以进行无尘操作。现在我们国家的净化工程已经在朝着节能的方向发展了，其他人很少知道净化工程的耗能量特别大，时候普通写字楼的20倍，比美国更发达国家高出了15%。看到这些令人心惊的数字，我们国家的科学家们从节能的角度出发从根本上出出发，设计出能够节省的相关设备。

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